屏蔽材料對電離輻射的屏蔽作用是通過材料中所含吸收物質對電離輻射的吸收完成的。物質對射線的吸收大體以下述兩種方式進行，即能量吸收和粒子吸收。能量吸收以射線與物質粒子發生洋陛和非彈性散射方式進行，如康普頓散射。
能量吸收的大小與吸收物質原子序數的4次方呈正比。“康普頓散射”以射線粒子與吸收物質的原子或原子核發生碰撞方式進行，粒子失去部分能量，同時改變行進方向(發生散射)。此過程反復進行，較終射線粒子的能量被耗盡，即被吸收。當射線能量較高時，如高能X射線或者Y射線，“康普頓散射”是吸收射線能量的主要方式。但在射線能量較低的情況下，譬如診斷用X射線，此種吸收在整個能量吸收中僅占較少份額(約10％)。
粒子吸收以射線粒子與物質的原子或原子核發生相互作用方式進行，如光電效應。利用“光電效應”吸收x射線的原理與前者不同，它是以X射線光子與核外電子相作用為基礎進行的。射線粒子打在核外電子上，其能量全部轉移給電子，射線粒子被吸收。與此同時獲得能量的電子擺脫原子核的束縛，成為自由電子。然而自由電子不穩定，它們將回到基態(穩定態)，回復過程中其富裕能量或以熱能形式，或通過能級躍遷發出次級射線的形式釋放。熱能對機體無害，次級射線也因其能量遠比原始的X射線低，從而達到防護射線的目的。當X射線能量較低時，光電吸收起主要作用(約占90％)。
決(jue)定物質(zhi)(zhi)(zhi)粒子(zi)吸收(shou)(shou)能(neng)力的(de)(de)(de)主要(yao)(yao)因素為該物質(zhi)(zhi)(zhi)原子(zi)的(de)(de)(de)K層(ceng)吸收(shou)(shou)邊(K absorption edge)-f立(li)置，即取決(jue)于物質(zhi)(zhi)(zhi)的(de)(de)(de)K層(ceng)吸收(shou)(shou)是否覆蓋射線的(de)(de)(de)能(neng)量(liang)或能(neng)譜。對低能(neng)X射線，物質(zhi)(zhi)(zhi)的(de)(de)(de)L層(ceng)吸收(shou)(shou)也(ye)起(qi)一(yi)定作(zuo)用。當物質(zhi)(zhi)(zhi)與(yu)中能(neng)和低能(neng)X射線作(zuo)用時(shi)，粒子(zi)吸收(shou)(shou)占有重要(yao)(yao)地位。
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